温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明实施例提供的一种氮化镓器件,包括:衬底层;位于所述衬底层之上的氮基半导体层;在所述氮基半导体层上形成的源电极、漏电极以及位于所述源电极和所述漏电极之间的栅结构,所述栅结构包括:钝化层;位于所述钝化层之上的浮栅,所述浮栅向所述源电极的一...该专利属于苏州东微半导体股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过苏州东微半导体股份有限公司授权不得商用。
温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明实施例提供的一种氮化镓器件,包括:衬底层;位于所述衬底层之上的氮基半导体层;在所述氮基半导体层上形成的源电极、漏电极以及位于所述源电极和所述漏电极之间的栅结构,所述栅结构包括:钝化层;位于所述钝化层之上的浮栅,所述浮栅向所述源电极的一...