温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

改进的一种提高光刻机分辨率的方法，本发明借鉴了单分子定位显微的核心思想，创造性地类比应用到光刻机领域。虽然形态上有很大差异，但是光刻机的核心本质也是光学成像技术，即把光掩模版上的精细图案通过光线的曝光投影复制到硅片上。光掩模版上两个挨得很近...
该专利属于吉通科技（广州）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过吉通科技（广州）有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。