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本发明公开了一种碳纳米管制备工艺，属于碳纳米管制备领域。一种碳纳米管制备工艺，将硅基片放入超声波清洗机中进行清洗；使用光刻机对清洗后的硅基片进行光刻处理；使用清洗装置对光刻后的硅基片进行清理；将清洗后的硅基片放入真空镀膜机中进行镀膜处理；清...
该专利属于研亿（泰安）电子科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过研亿（泰安）电子科技有限公司授权不得商用。

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