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本发明涉及一种利用基板检验提高光掩膜板良率的方法，包括步骤：对光掩膜板进行缺陷检测，对于不存在缺陷的光掩膜板作为产片使用，对于存在缺陷的光掩膜板进行二次判断；若不符合二次判断的规格，则作为工程片使用，否则进行步骤2的处理；采集光掩膜板的缺陷...
该专利属于兴华芯（绍兴）半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过兴华芯（绍兴）半导体科技有限公司授权不得商用。

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