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本技术提供一种补充酸性镀铜槽液中铜离子的设备，其特征在于，包括与渡槽相连的辅槽以及与辅槽相连的溶解槽，所述溶解槽包括溶解过滤部以及与溶解过滤部相连通的电解部，其中，所述电解部包括沿镀液流动方向依次设置的加料混合区、电解区以及与辅槽连通的回流...
该专利属于合肥东昇智能装备股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过合肥东昇智能装备股份有限公司授权不得商用。

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