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一种AL选择性扩散的二极管生产工艺。涉及半导体加工技术领域。包括以下步骤：步骤S100：N衬底选取；步骤S200：N衬底上生长氧化膜；步骤S300：一次单面选择性光刻；步骤S400：氧化膜去除；步骤S500：AL溅射；步骤S600：在溅射面...
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