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本发明公开了一种通孔桥连缺陷概率的计算方法及装置，通孔桥连缺陷概率的计算方法包括：获取双重曝光工艺下两层光刻掩膜版图的第一通孔和第二通孔，第一通孔的位置在套刻误差范围内沿预设方向波动，固定第二通孔的位置；划分第一通孔和第二通孔的位置关系；计...
该专利属于广东省大湾区集成电路与系统应用研究院所有，仅供学习研究参考，未经过广东省大湾区集成电路与系统应用研究院授权不得商用。

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