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本发明涉及能够有效去除处理液中的污染物的处理液供应单元、基板处理装置以及基板处理设备。处理液供应单元包括：混合部，用于混合去离子水和二氧化碳；第一供应部，向所述混合部供应所述去离子水；第二供应部，向所述混合部供应所述二氧化碳；以及过滤器部件...
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