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一种半导体结构及其形成方法，结构包括：衬底；位于衬底上的栅介质层；位于栅介质层上的阻挡层；位于阻挡层上的功函数层，所述阻挡层的氧化速率小于所述功函数层的氧化速率。所述半导体结构的性能得到提升。...
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