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存储元件用半导体基板的蚀刻组合物和使用其的存储元件用半导体基板的制造方法技术
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文档序号:40462049
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提供一种存储元件用半导体基板的蚀刻组合物,其能够提供具有改善的性能的存储元件用半导体基板。一种存储元件用半导体基板的蚀刻组合物,其包含(A)氧化剂、(B)氟化合物、和(C)金属钨防腐剂,前述(C)金属钨防腐剂包含选自由下述式(1)所示的铵盐...
该专利属于三菱瓦斯化学株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三菱瓦斯化学株式会社授权不得商用。
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