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本发明涉及晶圆加工技术领域，具体涉及一种用于晶圆研磨的研磨垫。包括研磨垫本体；研磨垫沟槽，设置在所述研磨垫本体面向晶圆的表面上，所述研磨垫沟槽包括多个同心圆以及多个以同心圆圆心为起点的射线。研磨垫沟槽为同心圆结合放射线类型，同心圆形状能保持...
该专利属于北京晶亦精微科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京晶亦精微科技股份有限公司授权不得商用。

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