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本发明公开了一种低羟胺干法刻蚀残留物清洗液及其制备方法与应用，利用40%‑60%的极性有机溶剂、3%‑5%的羟胺类化合物、15%‑30%的醇胺、5%‑10%的螯合剂和水制备得到低羟胺干法刻蚀残留物清洗液，其对铝、铝铜、钛、钨、氮化钛、氮化硅...
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