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本申请公开了一种阵列基板及其制备方法，阵列基板包括基板以及位于基板之上的栅极层，栅极层包括铜膜；阵列基板还包括无氢阻挡层以及介电层；无氢阻挡层位于基板之上且覆盖铜膜；介电层位于无氢阻挡层远离铜膜的一侧；其中，介电层设置为SiNX膜层；由于在...
该专利属于TCL华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过TCL华星光电技术有限公司授权不得商用。

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