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本发明涉及一种利用激光修补光掩模板缺陷的方法，包括：检验机台检测出与图形区黏连的残留物，获取检验机台坐标系的原点和残留物的中心点坐标作为偏离曝光数据，然后使用偏离曝光数据建立偏离曝光矩阵，得到偏离曝光文件；在光掩模板的表面涂布光刻胶；根据偏...
该专利属于兴华芯（绍兴）半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过兴华芯（绍兴）半导体科技有限公司授权不得商用。

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