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本发明涉及一种微米级图形化衬底的制备方法，由包括以下步骤的方法制备而成：S1、将增粘剂涂在清洗后的衬底基片上，然后进行第一烘烤，形成增粘层；S2、将负性光刻胶涂在所述增粘层上，然后进行第二烘烤，形成光刻胶层；S3、对涂布有所述增粘层和所述光...
该专利属于浙江丽晖智能装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江丽晖智能装备有限公司授权不得商用。

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