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本发明公开了一种大数据Wafer缺陷确定方法、装置、设备及存储介质，所述方法通过对待检测晶圆Wafer进行缺陷检测，在检测到待检测Wafer有缺陷时，获得缺陷属性；根据所述缺陷属性对所述待检测Wafer进行缺陷分析，获得分析结果；判断所述分...
该专利属于武汉中导光电设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉中导光电设备有限公司授权不得商用。

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