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本公开提供了一种基站、清洁装置及清洁系统，基站包括机架和清洁装置，机架上设置有供自移动设备至少部分进入的容纳腔，机架顶部设置有盖板；清洁装置包括位于机架上方的盖板，盖板底部设置有与容纳腔连通的活动腔；清洁装置还包括设置在盖板上的驱动组件、传...
该专利属于科沃斯机器人股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过科沃斯机器人股份有限公司授权不得商用。

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