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本发明涉及成膜装置。提供一种在进行溅射的成膜装置中用于使用吸气材料更高效地去除腔室内部的杂质的技术。使用一种成膜装置，具备：腔室；第1阴极单元，其具有包含成膜材料的第1靶材，在所述腔室内部通过溅射在基板上形成成膜材料的膜；以及第2阴极单元，...
该专利属于佳能特机株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过佳能特机株式会社授权不得商用。

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