下载衬底屏蔽结构及其形成方法的技术资料

文档序号:40415999

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。

一种衬底屏蔽结构及其形成方法,其中结构包括:衬底;位于所述衬底上的屏蔽层,所述屏蔽层包括沿第一方向排布的若干相互分立的单元区,各所述单元区包括沿第二方向排布的若干线圈区,相邻线圈区之间电互连,各线圈区包括第一线圈,所述第一线圈包括至少一个线...
该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。