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本发明公开一种三腔体真空炉，包括腔体a、腔体b和腔体c，腔体a、腔体b和腔体c之间设有密封门，腔体a和外部环境之间设有密封门，密封门通过底部的气缸进行驱动，腔体b内设有移送机构，移送机构包括前部移送机构和后部移送机构，移送机构包括L型板，移...
该专利属于芯朋半导体科技（如东）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过芯朋半导体科技（如东）有限公司授权不得商用。

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