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南京原磊纳米材料有限公司
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一种原子层沉积设备真空腔制造技术
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下载一种原子层沉积设备真空腔的技术资料
文档序号:40393742
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本申请实施例提供了一种原子层沉积设备真空腔,包括上筒体、下筒体以及冷却管路;上筒体设置在下筒体上,上筒体与下筒体形成真空腔室;真空腔室内设置有反应腔室,反应腔室的外壁上设置有加热装置,加热装置用以对反应腔室加热;冷却管路中设置有流动的冷却液...
该专利属于南京原磊纳米材料有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过南京原磊纳米材料有限公司授权不得商用。
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