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一种用于半导体处理设备的气体分配装置，通过主气体分配管路将来自气体源的反应气体送至反应腔，通过相互之间独立设置的调节气体分配管路来微调主气体分配管路中与反应腔的进气口相连的每一个主管路中的气体流量，并进一步通过相互之间独立设置的分支调节气体...
该专利属于中微半导体设备（上海）股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中微半导体设备（上海）股份有限公司授权不得商用。

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