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一种半导体结构的形成方法以及SRAM存储器的形成方法，其中，半导体结构的形成方法包括：提供衬底；在衬底上形成第一图形材料层；在第一图形材料层上形成第一侧墙、牺牲结构，牺牲结构的尺寸大于第一侧墙的尺寸；对第一图形材料层注入掺杂离子，形成第一侧...
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