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本公开涉及一种真空镀膜系统及真空镀膜方法，系统包括：真空腔体，设置于真空腔体内部用于带动基片移动的传送装置，以及设置于真空腔体内部用于加热基片的加热器；真空腔体内还设置有沿基片移动方向的多个蒸发镀膜腔室，以及与每个蒸发镀膜腔室配合的镀膜检测...
该专利属于国家能源投资集团有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过国家能源投资集团有限责任公司授权不得商用。

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