下载一种用于半导体设备的加热装置、工艺腔和维护方法的技术资料

文档序号:40370843

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本发明一种用于半导体设备的加热装置,加热装置包括固定部、加热部、旋转部和抵靠部;加热部用于在工艺期间向晶圆提供热能量;旋转部与固定部转动连接以执行旋转部的旋转动作,旋转部用于带动加热部沿旋转部的中心点旋转;抵靠部设置于固定部和旋转部之间,用...
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