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公开了一种确定与衬底上通过光刻过程形成的结构有关的感兴趣特性(特别是聚焦)的方法以及相关联的图案形成装置和光刻系统。方法包括：使用图案形成装置上对应的经修改的掩模版特征在衬底上形成经修改的衬底特征，经修改的衬底特征被形成用于除了量测以外的主...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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