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本申请涉及一种空气桥的制备方法和超导量子芯片。所述方法包括：在基底上涂敷至少两层光刻胶层，且距离所述基底越远的光刻胶层的光刻胶感光度越大；对所述至少两层光刻胶层的至少两处桥区域进行曝光刻蚀处理，以在所述至少两处桥区域形成具有不同种桥撑结构的...
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