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本发明公开了一种硅片清洗剂及其使用方法，包括氧化剂、有机碱、渗透剂和水，各组分的体积比是氧化剂∶有机碱∶渗透剂∶水＝０．０２～０．１∶１～４∶０．５～１∶３０～５０；所述的氧化剂的标准电极电位不小于１．７Ｖ，是臭氧或双氧水；所述的有机碱选自...
该专利属于国电光伏（江苏）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过国电光伏（江苏）有限公司授权不得商用。

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