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本发明公开了一种高硬度难熔高熵合金氮化膜及其制备方法，该方法选难熔高熵合金TiZrNbMo靶材，采用磁控溅射方法在衬底上制备难熔高熵合金氮化膜。本发明选用近等原子比且具有BCC结构的难熔高熵合金TiZrNbMo靶材，采用磁控溅射方法，通过调...
该专利属于西北有色金属研究院所有，仅供学习研究参考，未经过西北有色金属研究院授权不得商用。

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