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本发明的目的在于提供一种防护膜框架，即使将防护膜贴合于曝光底版上，仍可极力减轻因防护膜框架的变形所引起的曝光底版的变形；及提供一种具有此种防护膜框架的光刻用防护膜。本发明的防护膜框架的特征在于，防护膜框架的剖面，是在上边与下边平行且面积为２...
该专利属于信越化学工业株式会社;英特尔公司所有，仅供学习研究参考，未经过信越化学工业株式会社;英特尔公司授权不得商用。

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