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本申请公开了一种降低特布他林中杂质化合物I的含量的方法，由化合物Ⅱ在反应溶剂中，经氢化还原反应得到高纯度特布他林，其中化合物Ⅱ中含有质量百分含量为0.2％～1.5％的化合物Ⅲ。该方法能够有效减少杂质化合物I的产生，从而降低杂质化合物I的含量...
该专利属于四川科伦药物研究院有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过四川科伦药物研究院有限公司授权不得商用。

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