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本发明公开了一种原子层沉积设备的工艺腔机构，包括加热上盖板、加热筒体和加热下盖板，加热下盖板固定在加热筒体的底面上并覆盖加热筒体的底部，加热筒体的顶面固定有加热上盖板并覆盖加热筒体的顶部，所述加热上盖板的底面安装有顶部加热丝，加热下盖板的顶...
该专利属于浙江大学绍兴研究院所有，仅供学习研究参考，未经过浙江大学绍兴研究院授权不得商用。

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