温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本申请公开了一种工艺腔处理方法，所述方法应用于工艺腔，所述工艺腔中设置有加热台，所述方法包括：在加热台表面沉积薄膜层；同步清洗所述加热台和工艺腔腔体。本申请通过上述方案，能够提高加热台的使用寿命。...
该专利属于华虹半导体（无锡）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华虹半导体（无锡）有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。