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一种半导体装置以及半导体装置的制作方法制造方法及图纸
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文档序号:40314976
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本申请实施例公开了一种半导体装置以及半导体装置的制作方法。一种半导体装置包括:硅通孔以及依次层叠的第一芯片,第二芯片和第五绝缘层。第一芯片包括具有第一开口的第一绝缘层;第一开口暴露出第一电连接层。硅通孔包括相连的第一段硅通孔和第二段硅通孔;...
该专利属于华为技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过华为技术有限公司授权不得商用。
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