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本发明涉及光电探测器件加工制造技术领域，公开了一种可量产制备超透镜的纳米压印方法，采用纳米压印工艺在压印胶层上表面得到微纳结构图案，对压印胶层进行刻蚀并在基底上得到呈微纳结构的图案，具有转换精度高、成本低和可批量生产等优点，省去了电子束光刻...
该专利属于华天慧创科技(西安)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华天慧创科技(西安)有限公司授权不得商用。

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