【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光电探测器件加工制造，具体为一种可量产制备超透镜的纳米压印方法。
技术介绍
1、超透镜现有加工工艺流程耗时最大之处为曝光工艺，常规使用的为直写或电子束，这就导致超透镜曝光无法大面积制备且8寸晶圆布满图案要加工7-14天。现有超透镜结构尺寸多为30～400nm，其曝光同步需使用高精度euv光刻机，但因超透镜基底多为透明石英基底，就导致现有光刻设备无法自动化传片，需开发定制对应的高精度euv光刻机。euv光刻机又因技术封锁，所以超透镜采用光刻机进行量产更是难上加难。为解决如上技术难点本专利技术提供了一种可量产制备超透镜的纳米压印方法。
2、大多数传统的透镜设计是采用凸形或凹形结构，以实现对入射光的聚焦或扩散。尽管在光轴上可达到近乎理想的聚焦效果，但所得图像可能会因为穿过透镜其他区域的光而失真。
3、相比之下，超透镜的设计更加灵活。超透镜是使用超表面来聚焦光线的平面透镜。超表面是一系列人工天线，可操纵入射光的光学响应，包括其幅度相位和偏振。超透镜技术为镜头提供了一系列新的轻量化设计选项，同时，透镜表面的平...
【技术保护点】
1.一种可量产制备超透镜的纳米压印方法，其特征在于，包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种可量产制备超透镜的纳米压印方法，其特征在于，步骤1中，对模具上表面进行清洗的过程如下：
3.根据权利要求1所述的一种可量产制备超透镜的纳米压印方法，其特征在于，步骤1中，对模具的抗黏处理过程如下：
4.根据权利要求1所述的一种可量产制备超透镜的纳米压印方法，其特征在于，步骤2中，采用匀胶设备在模具预置超透镜纳米结构图案一侧表面上均匀旋涂一层压印胶，旋涂转速为1000～3000r/min。
5.根据权利要求1所述的一种可量产制备...
【技术特征摘要】
1.一种可量产制备超透镜的纳米压印方法，其特征在于，包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种可量产制备超透镜的纳米压印方法，其特征在于，步骤1中，对模具上表面进行清洗的过程如下：
3.根据权利要求1所述的一种可量产制备超透镜的纳米压印方法，其特征在于，步骤1中，对模具的抗黏处理过程如下：
4.根据权利要求1所述的一种可量产制备超透镜的纳米压印方法，其特征在于，步骤2中，采用匀胶设备在模具预置超透镜纳米结构图案一侧表面上均匀旋涂一层压印胶，旋涂转速为1000～3000r/min。
5.根据权利要求1所述的一种可量产制备超透镜的纳米压印方法，其特征在于，步骤2中，子模为聚合物柔性模板，包括ps模板、pmma模板、或pet模板中的任意一个，其中子模压印胶粘度为400～420mpa·s。
6.根据权利要求1所述的一种可量产制备超透镜的纳米压印方法，其特征在于，步骤3中，采用匀胶设备在基底上表面均匀旋...
【专利技术属性】
技术研发人员：赵华琦，周建锋，刘守航，
申请(专利权)人：华天慧创科技西安有限公司，
类型：发明
国别省市：
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