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本文中描述一种确定用于掩模图案的辅助特征的方法。所述方法包括：获得(i)包括多个目标特征的目标图案，其中，所述多个目标特征中的每个目标特征包括多个目标边缘；和(ii)经训练的序列至序列机器学习(ML)模型(例如，长短期存储器、门控递归单元等...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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