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本发明提供了一种TOPCon电池结构的制备方法及应用，本发明利用硼扩共推工艺同时推进形成正面发射区n‑poly与背面p‑poly，减少了一步高温工艺，简化了工艺流程。后续通过利用激光大面积开膜工艺，保留电池正面发射极与金属接触区域的TOPC...
该专利属于天合光能股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过天合光能股份有限公司授权不得商用。

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