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本发明涉及半导体材料技术领域,具体是一种砷化镓多晶的位错腐蚀液及其位错腐蚀方法。本发明提供的位错腐蚀液包括:浓硝酸、氢氟酸和水;所述浓硝酸的质量浓度为50wt%~68wt%;所述氢氟酸的质量浓度为28wt%~40wt%;所述浓硝酸、氢氟酸和...该专利属于广东先导微电子科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过广东先导微电子科技有限公司授权不得商用。
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本发明涉及半导体材料技术领域,具体是一种砷化镓多晶的位错腐蚀液及其位错腐蚀方法。本发明提供的位错腐蚀液包括:浓硝酸、氢氟酸和水;所述浓硝酸的质量浓度为50wt%~68wt%;所述氢氟酸的质量浓度为28wt%~40wt%;所述浓硝酸、氢氟酸和...