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本申请公开了一种流体加热结构和半导体流体处理系统,涉及半导体技术领域。流体加热结构包括侧壁、探测管体、加热组件和测温组件。其中,侧壁围成用于容纳流体的腔体;探测管体的一端连接于侧壁并与腔体连通,探测管体的另一端形成开口;加热组件贴设于侧壁的...该专利属于拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司授权不得商用。
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