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本发明提供一种能够形成缺陷少的导电图案的包含导电图案的层叠体的制造方法。包含导电图案的层叠体的制造方法包括：准备带晶种层的基材的工序；在基材的一表面上形成第1感光性组合物层的工序；对其进行曝光并用第1显影液进行显影处理来形成第1抗蚀剂图案的...
该专利属于富士胶片株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过富士胶片株式会社授权不得商用。

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