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本技术公开一种镀膜设备样品台组件，涉及半导体设备领域，镀膜设备具有真空室，镀膜设备样品台组件包括设置于真空室内的底座和加热组件；底座具有第一座面和相对的第二座面，第一座面与加热组件相连。底座的第二座面朝向上，第二座面包括第一环面、第二斜面、...
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