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一种含硅抗蚀剂下层膜形成用组合物，其含有：[A]成分：聚硅氧烷、和[C]成分：溶剂。所述聚硅氧烷包含源自具有碘代烷基的水解性硅烷(A)的结构单元。...
该专利属于日产化学株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过日产化学株式会社授权不得商用。

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