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本技术的磁控溅射靶的气体流道，其包括内部形成直流管腔的流道本体，流道本体自下而上依次穿过磁控溅射靶的电磁铁线圈、极板、靶材内部，且上下端部分别露出磁控溅射靶的顶部和底部，气体流道还包括设置在流道本体顶部的均流座，其中均流座内部形成自中心向外...
该专利属于苏州瓴辉光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州瓴辉光电科技有限公司授权不得商用。

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