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本技术公开了一种磁控溅射设备、双轴驱动装置以及真空设备。磁控溅射设备包括：镀膜腔，镀膜腔的内部的上方具有靶材；双轴驱动装置，与镀膜腔隔开并设置在镀膜腔的上方，双轴驱动装置具有：第一驱动部，沿第一方向驱动，第二驱动部，沿与第一方向正交的第二方...
该专利属于深圳市矩阵多元科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市矩阵多元科技有限公司授权不得商用。

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