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本发明提供了一种极片，所述极片包括集流体和在所述集流体至少一侧表面的第一涂层，所述第一涂层包括第一区和第二区，所述第一区位于所述集流体的中间区域，所述第二区位于所述集流体的边缘区域，所述第一区与所述第二区邻接，所述第一区的含硅量大于所述第二...
该专利属于珠海冠宇电池股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过珠海冠宇电池股份有限公司授权不得商用。

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