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本发明涉及掩膜校正领域，公开了一种掩膜图案校正方法、装置、电子设备和可读存储介质，包括：将目标掩膜图案划分为亚分辨率辅助图形目标图案和其他目标图案；在所述其他目标图案固定的条件下，利用预先建立的掩膜工艺校正程序对所述亚分辨率辅助图形目标图案...
该专利属于华芯程（杭州）科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华芯程（杭州）科技有限公司授权不得商用。

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