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一种制作云纹光栅的方法和纳米压印设备，属于光学器件制造和光测力学技术领域。本发明首先采用电铸工艺制作镍光栅膜，再采用覆膜工艺制作镍基金属光栅模板，避免了硅基等脆性模板易裂的缺点，可以多次重复使用。通过纳米压印的方法和设备在试件表面制作云纹光...
该专利属于清华大学所有，仅供学习研究参考，未经过清华大学授权不得商用。

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