温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本申请提供一种掩模板组件、光刻装置和光刻方法，通过两次曝光工艺，提高工艺窗口。掩模板组件包括第一掩模板和第二掩模板。第一掩模板用于对待刻蚀层上的正性光刻胶中位于禁止周期的部分进行第一次曝光，得到第一光刻胶图案。第一掩模板包括交替的第一透光图...
该专利属于华为技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华为技术有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。