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本公开实施例涉及半导体领域，提供一种半导体结构及制备方法，半导体结构包括：基底、栅介质层、位于PMOS区的第一栅极以及位于NMOS区的第二栅极；基底包括PMOS区和NMOS区；栅介质层位于PMOS区以及NMOS区的基底上；第一栅极包括堆叠的...
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